- AutorIn
- Sebastian Patzig-Klein
- Titel
- Untersuchungen zum Reaktionsverhalten kristalliner Siliziumoberflächen in HF-basierten Ätzlösungen
- Zitierfähige Url:
- https://nbn-resolving.org/urn:nbn:de:bsz:105-qucosa-27118
- Datum der Einreichung
- 07.07.2009
- Datum der Verteidigung
- 11.09.2009
- Abstract (DE)
- Die vorliegende Arbeit befasst sich mit der grundlegenden Untersuchung von Reaktionsmustern kristalliner Si-Oberflächen in HF-basierten Lösungen. Ausgehend von den industriell genutzten HF-HNO3-H2O-Gemischen wurden wisher wenig untersuchte HF/HNO3-Konzentrationsverhältnisse, die durch gelöste Stickoxide bedingten Folgereaktionen sowie der PH-Wert als Steuerparameter zur Aufarbeitung feinkörniger Si-Rohstoffe (Korngröße ≤ 0,5 mm) identifiziert. Die in diesem Kontext zentrale Rolle der NO+-Ionen wurde durch Untersuchung der spezifischen Reaktionsmuster an kristallinen as-cut und hydrophobierten Si-Oberflächen sowie bei Umsetzungen mit Oligosilanen als Modellverbindungen bestätigt. Die aus den umfassenden analytischen Daten (FT-IR-, Raman-, NMR-Spektroskopie, IC, REM-EDX, AFM) gewonnenen Erkenntnisse liefern einen wichtigen Beitrag zum Verständnis nasschemischer Halbleiterätzprozesse und erschließen neue Anwendungsfelder.
- Freie Schlagwörter (DE)
- Kristallines Silicium, Nasschemische Halbleiterätzverfahren, Nitrosylionen, Elektrochemisches Abtragen, Flusssäure, Salpetersäure, Nitrosylkation
- Freie Schlagwörter (EN)
- crystalline silicon, wet chemical semiconductor etching processes, nitrosonium ions, electrochemical etching, hydrofluoric acid, nitric acid
- Klassifikation (DDC)
- 540
- Klassifikation (RVK)
- VH 8021, ZM 7660, VE 7000
- GutachterIn
- Prof. Dr. Edwin Kroke
- Prof. Dr. Jörg Acker
- BetreuerIn
- Prof. Dr. Edwin Kroke
- Verlag
- TU Bergakademie Freiberg, Freiberg
- URN Qucosa
- urn:nbn:de:bsz:105-qucosa-27118
- Veröffentlichungsdatum Qucosa
- 16.02.2010
- Dokumenttyp
- Dissertation
- Sprache des Dokumentes
- Deutsch