- AutorIn
- Masayuki Yoshida
- Hajime Kitagawa
- Masami Morooka
- Shuji Tanaka
- Titel
- Near equilibrium in dissociative diffusion of nickel in silicon
- Zitierfähige Url:
- https://nbn-resolving.org/urn:nbn:de:bsz:15-qucosa-193854
- Quellenangabe
- Diffusion fundamentals - 6
- Quellenangabe
- Diffusion fundamenbtals 6 (2007) 49, S. 1-2
- Erstveröffentlichung
- 2007
- Freie Schlagwörter (DE)
- Diffusion, Transport
- Freie Schlagwörter (EN)
- diffusion, transport
- Klassifikation (DDC)
- 530
- Herausgeber (Institution)
- Yoshida Semiconductor Laboratory
- Universität Leipzig
- URN Qucosa
- urn:nbn:de:bsz:15-qucosa-193854
- Veröffentlichungsdatum Qucosa
- 12.01.2016
- Dokumenttyp
- Artikel
- Sprache des Dokumentes
- Englisch