Atomlithographie mit dissipativen Lichtmasken
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Zusammenfassung
Die neue Methode der dissipativen Lichtmasken wird in dieser Arbeit theoretisch untersucht und auf ihre Anwendbarkeit in der Atomlithographie überprüft.
Numerische Simulationen zeigen, dass durch spontane Emission während des Durchgangs der Atome durch die Lichtmaske im Mittel Energie dissipiert werden kann und somit die
Lokalisierung der Atome in der stehenden Lichtwelle verbessert wird. Des Weiteren werden alle Atome von dieser Wirkung erfasst, so dass sich auch der stets
störende Chromuntergrund reduziert. Zur experimentellen Umsetzung der neuen Methode werden deutlich längere Wechselwirkungszeiten der Atome
mit der Lichtmaske benötigt als bisher. Dies wird zukünftig durch Präparation eines langsamen Atomstrahls und Verwendung ausgedehnter Lichtmasken erfolgen.
Hierfür wird allerdings wesentlich mehr Lichtleistung bei der Wellenlänge des Chromübergangs von 425,6nm benötigt. In der Arbeit wird die Realisierung eines neuen
Frequenzverdopplungsresonators basierend auf einem 15mm langen brewster-geschnittenen LBO-Kristall beschrieben, womit es erstmals gelang 1W Licht der
benötigten Wellenlänge zu erzeugen.
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ISO 690
STÜTZLE, Ralf, 2001. Atomlithographie mit dissipativen Lichtmasken [Master thesis]BibTex
@mastersthesis{Stutzle2001Atoml-9227,
year={2001},
title={Atomlithographie mit dissipativen Lichtmasken},
author={Stützle, Ralf}
}RDF
<rdf:RDF
xmlns:dcterms="http://purl.org/dc/terms/"
xmlns:dc="http://purl.org/dc/elements/1.1/"
xmlns:rdf="http://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#"
xmlns:bibo="http://purl.org/ontology/bibo/"
xmlns:dspace="http://digital-repositories.org/ontologies/dspace/0.1.0#"
xmlns:foaf="http://xmlns.com/foaf/0.1/"
xmlns:void="http://rdfs.org/ns/void#"
xmlns:xsd="http://www.w3.org/2001/XMLSchema#" >
<rdf:Description rdf:about="https://kops.uni-konstanz.de/server/rdf/resource/123456789/9227">
<dcterms:hasPart rdf:resource="https://kops.uni-konstanz.de/bitstream/123456789/9227/1/stuetzle.pdf"/>
<dcterms:abstract xml:lang="deu">Die neue Methode der dissipativen Lichtmasken wird in dieser Arbeit theoretisch untersucht und auf ihre Anwendbarkeit in der Atomlithographie überprüft.<br />Numerische Simulationen zeigen, dass durch spontane Emission während des Durchgangs der Atome durch die Lichtmaske im Mittel Energie dissipiert werden kann und somit die<br />Lokalisierung der Atome in der stehenden Lichtwelle verbessert wird. Des Weiteren werden alle Atome von dieser Wirkung erfasst, so dass sich auch der stets<br />störende Chromuntergrund reduziert. Zur experimentellen Umsetzung der neuen Methode werden deutlich längere Wechselwirkungszeiten der Atome<br />mit der Lichtmaske benötigt als bisher. Dies wird zukünftig durch Präparation eines langsamen Atomstrahls und Verwendung ausgedehnter Lichtmasken erfolgen.<br />Hierfür wird allerdings wesentlich mehr Lichtleistung bei der Wellenlänge des Chromübergangs von 425,6nm benötigt. In der Arbeit wird die Realisierung eines neuen<br />Frequenzverdopplungsresonators basierend auf einem 15mm langen brewster-geschnittenen LBO-Kristall beschrieben, womit es erstmals gelang 1W Licht der<br />benötigten Wellenlänge zu erzeugen.</dcterms:abstract>
<dcterms:available rdf:datatype="http://www.w3.org/2001/XMLSchema#dateTime">2011-03-24T17:54:42Z</dcterms:available>
<dspace:hasBitstream rdf:resource="https://kops.uni-konstanz.de/bitstream/123456789/9227/1/stuetzle.pdf"/>
<dspace:isPartOfCollection rdf:resource="https://kops.uni-konstanz.de/server/rdf/resource/123456789/41"/>
<foaf:homepage rdf:resource="http://localhost:8080/"/>
<dc:language>deu</dc:language>
<dc:contributor>Stützle, Ralf</dc:contributor>
<dc:format>application/pdf</dc:format>
<dc:date rdf:datatype="http://www.w3.org/2001/XMLSchema#dateTime">2011-03-24T17:54:42Z</dc:date>
<void:sparqlEndpoint rdf:resource="http://localhost/fuseki/dspace/sparql"/>
<dc:creator>Stützle, Ralf</dc:creator>
<dcterms:title>Atomlithographie mit dissipativen Lichtmasken</dcterms:title>
<dcterms:rights rdf:resource="https://rightsstatements.org/page/InC/1.0/"/>
<dcterms:issued>2001</dcterms:issued>
<dcterms:isPartOf rdf:resource="https://kops.uni-konstanz.de/server/rdf/resource/123456789/41"/>
<bibo:uri rdf:resource="http://kops.uni-konstanz.de/handle/123456789/9227"/>
<dc:rights>terms-of-use</dc:rights>
</rdf:Description>
</rdf:RDF>
