Zur flexiblen und günstigen Fertigung analoger Mikrooptik wurde ein interferometrisches Belichtungskonzept entworfen, welches als interferometrisches Phasenkontrastverfahren bezeichnet wird. Die vorliegende Arbeit beschreibt das interferometrische Phasenkontrastverfahren analytisch und mathematisch. Aus dem interferometrischen Phasenkontrast werden zusätzlich zwei Modelle entwickelt, mit denen auf Fourierfilterung basierende Phasenkontrastverfahren berechnet werden können. Mit Hilfe eines dieser Modelle wird die Phasenkontrastabbildung mittels Phasenverzögerung des gebeugten Lichtes abgeleitet. Bei der Optimierung des interferometrischen Belichtungsaufbaus wird ein neuer Typ von Halbtonmaske für die analoge Lithographie gewonnen. Aus dem physikalischen Wirkungsprinzip dieser neuen Halbtonmaske werden vier weitere Halbtonmasken abgeleitet, welche allesamt die günstige Fertigung analoger Mikrooptik ermöglichen.