A contribution to elucidate interfacial electric double layer structures and their effects on tribological phenomena using force microscopy

  • Unter Versuchung von Kraftmikroskopie – AFM und SFA, wurde die Anionenstrukturierung an geladenen Glimmer- und Goldoberflächen untersucht. Es wurde gefunden, dass sterische Kräfte, die von Anionen herrühren, inm gleich Größenordnung der sterischen Kräfte, die von Kationen entstehen, sein, und auch dass die Hydrationsschichtung der untersuchten Anionen unabhängig von ihrer Hydratationsenergie ist, was darauf hinweist, dass spezifische Ionenbindung die Anionenadsorption auf Glimmeroberflächen dominiert. Die Adsorptionsfähigkeit von Anionen in den Säuren auf Gold oberfläche folgt der Sequenz von HNO\(_3\) \(\approx\) HClO\(_4\) <HCl \(\approx\) H\(_3\)PO\(_4\) <H\(_2\)SO\(_4\), während die Adhäsion Hysterese einen entgegengesetzten Trend zeigt. Schließlich zeigten mikroskalige Gleitexperimente mit SFA, dass die EDL-Strukturierung, insbesondere die Anordnung der Ionen, eine Schmierung zwischen den Gleitflächen zur Vermeidung von direktem Kontaktabrieb ermöglichen kann.

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Metadaten
Author:Qingyun HuGND
URN:urn:nbn:de:hbz:294-56258
Referee:Michael RohwerderGND, Markus ValtinerGND
Document Type:Doctoral Thesis
Language:English
Date of Publication (online):2018/03/07
Date of first Publication:2018/03/07
Publishing Institution:Ruhr-Universität Bochum, Universitätsbibliothek
Granting Institution:Ruhr-Universität Bochum, Fakultät für Maschinenbau
Date of final exam:2018/01/29
Creating Corporation:Fakultät für Maschinenbau
GND-Keyword:Elektrische Doppelschicht; Rasterkraftmikroskopie; Anion; Glimmer; Tribologie
Institutes/Facilities:Max-Planck-Institut für Eisenforschung, Düsseldorf, Abteilung Grenzflächenchemie und Oberflächentechnik
Dewey Decimal Classification:Technik, Medizin, angewandte Wissenschaften / Ingenieurwissenschaften, Maschinenbau
faculties:Fakultät für Maschinenbau
Licence (German):License LogoKeine Creative Commons Lizenz - es gelten der Veröffentlichungsvertrag und das deutsche Urheberrecht