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AutorIn
Andreas Schubert
Titel
TEM-Untersuchungen an Silicidschichten
Zitierfähige Url:
https://nbn-resolving.org/urn:nbn:de:swb:ch1-200501612
Datum der Einreichung
11.10.2005
Abstract (DE)
In dieser Arbeit wurden Ni-Si-Ga-Schichten mit Hilfe der Transmissionselektronenmikroskopie charakterisiert.
Freie Schlagwörter
Durchstrahlungselektronenmikroskopie
Nickeldisilicid
TEM
dünne Schichten
Klassifikation (DDC)
530
Normschlagwörter (GND)
Elektronenbeugung
Elektronenmikroskopie
Epitaxie
Silicide
Den akademischen Grad verleihende / prüfende Institution
Technische Universität Chemnitz, Chemnitz
URN Qucosa
urn:nbn:de:swb:ch1-200501612
Veröffentlichungsdatum Qucosa
01.12.2005
Dokumenttyp
Diplomarbeit
Sprache des Dokumentes
Deutsch
Volltext (pdf)
Digitale Signatur
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